高純度オゾンビームを利用したシリコン酸化膜形成と表面クリーニング

文献

J-GLOBAL ID：200902123498410037 整理番号：98A0598986

Application of high-purity ozone beam to silicon-oxide thin-film formation and surface cleaning.

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資料名：
巻： 67 号： 6 ページ： 673-677 発行年： 1998年06月
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

液体オゾンの平衡蒸気圧を制御して高純度オゾンビームを供給する...

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酸化物薄膜 , 半導体の表面構造

引用文献 (22件)：

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