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J-GLOBAL ID：200902137362154615   整理番号：02A0375467

SiO₂薄膜付きウエハ上微粒子からの散乱光検出

Detection of Light Scattered by Particles on Silicon Wafer Deposited with SiO₂ Thin Film.

著者 (5件)： 秋山伸幸 (長岡技科大) ,  鈴木寿朗 (長岡技科大 大学院) ,  川田賢司 (長岡技科大 大学院) ,  吉田昌弘 (長岡技科大) ,  八掛保夫 (東京エレクトロン)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 68  号： 4  ページ： 531-535  発行年： 2002年04月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： パターン付きウエハ上で微小異物を検出することは極めて困難なた...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： 薄膜付きウエハ ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (14件)：

• 秋山伸幸. 半導体用異物検査技術. 精密工学会誌. 1989, 55, 2, 294
• LIELIENFELD, P. Optical Detection of Particle Contamination of Surface. A Review, Aerosol Sci. and Technol. 1986, 5, 145
• 小西義一. 半導体ウェーハの汚れを見る. 洗浄設計. 1988, Spring, 2
• 八掛保夫. 大口径ウエハ用表面検査装置の開発. 日立電子エンジニアリング技報. 1996, 12, 16
• 秋山伸幸. 斜方照明・斜方検出による微粒子検出装置の開発. 精密工学会誌. 1997, 63, 10, 1444

タイトルに関連する用語 (5件)： SiO2 ,  薄膜 ,  ウエハ ,  微粒子 ,  散乱光