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J-GLOBAL ID：200902154045139343   整理番号：02A0109006

NiTiスパッタ膜の組成分布のアルゴンガス圧力に対する依存性

Dependence of Composition Distribution of NiTi Sputtered Films on Ar Gas Pressure.

著者 (7件)： YAMAZAKI T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  YOSHIZAWA T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  TAKADA H (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  TAKEDA F (Toyama National Coll. Technol., Toyama, JPN) ,  KIKUTA T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  NAKATANI N (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  YAMABUCHI T (Toyama Univ., Toyama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40  号： 12  ページ： 6936-6940  発行年： 2001年12月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 様々な条件下でdcスパッタリングによって形成したNiTi膜の...

シソーラス用語： *チタン合金 ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性

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分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (23件)：

• 1) E. Wang, W. J. Buehler and S. T. Pickert: J. Appl. Phys. 36 (1965) 3232.
• 2) A. Ishida, A. Takei and S. Miyazaki: Thin Solid Films 228 (1993) 210.
• 3) F. Takeda, T. Yamazaki and T. Nakajima: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 5992.
• 4) M. Bendahan, J. Seguin, P. Canet and H. Carchano: Thin Solid Films 283 (1996) 61.
• 5) T. Ikeda, Y. Ozeki, D. Sakurai, K. Fujimoto and S. Nakata: Proc. 3rd Symp. Microjoining and Assembly Technology in Electronics, Yokohama, 1997, p. 131 [in Japanese].

タイトルに関連する用語 (6件)： NiTi ,  スパッタ膜 ,  組成分布 ,  アルゴン ,  ガス圧力 ,  依存性