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J-GLOBAL ID：200902173012463654   整理番号：02A0278743

金属-硫黄触媒を使った簡単な熱処理により成長させたシリコンナノニードル

Silicon Nanoneedles Grown by a Simple Thermal Treatment Using Metal-Sulfur Catalysts.

著者 (2件)： KOHNO H (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKEDA S (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41  号： 2A  ページ： 577-578  発行年： 2002年02月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 蒸気-液体-固体プロセスを介して金属と硫黄で加熱して,シリコ...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (7件)：

• 1) H. Kohno and S. Takeda: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 3144.
• 2) H. Kohno, S. Takeda and K. Tanaka: J. Electron Microsc. 49 (2000) 275.
• 3) H. Kohno and S. Takeda: J. Cryst. Growth 216 (2000) 185.
• 4) H. Kohno, T. Iwasaki and S. Takeda: Solid State Commun. 116 (2000) 591.
• 5) R. S. Wagner and W. C. Ellis: Appl. Phys. Lett. 4 (1964) 89.

タイトルに関連する用語 (6件)： 硫黄 ,  触媒 ,  熱処理 ,  成長 ,  シリコン ,  ナノニードル