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J-GLOBAL ID：200902178293737725   整理番号：97A0747999

レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発

Measurement of Ultra Fine Particles on the Si Wafer Surface Using a Laser Light Scattering Method.

著者 (8件)： 井上晴行 (大阪大 大学院) ,  片岡俊彦 (大阪大 大学院) ,  遠藤勝義 (大阪大 大学院) ,  押鐘寧 (大阪大 大学院) ,  森勇蔵 (大阪大 大学院) ,  杉山和久 (大阪大 大学院) ,  安弘 (大阪電通大 工) ,  井山章吾 (大阪大 大学院)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 63  号： 8  ページ： 1117-1121  発行年： 1997年08月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： レーザ光散乱法によるSiウエハ上の微粒子計測装置を試作した。...

シソーラス用語： レーザビーム ,...

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分類 (2件)： 集積回路一般  (NC03161C) ,  計測機器一般  (AD02000X)

引用文献 (10件)：

• 秦清治. 外観検査自動化へのうねり. エレクトロニクス. 1992, 2, 26
• 平成4年度次世代ウルトラクリーン化技術に関する調査研究報告書. 1992, 635
• 小西義一. 半導体ウェーハの汚れを見る. 洗浄設計. 1988, 2
• 秋山伸幸. 半導体用異物検査技術. 精密工学会誌. 1989, 55, 2, 294
• 井上晴行. 光散乱によるSiウェーハ表面の微粒子計測. 1993年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 1993, 207

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザ ,  光散乱法 ,  Siウエハ ,  微粒子 ,  計測装置 ,  開発