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J-GLOBAL ID：200902185201966908   整理番号：00A0658809

スパッタリングによるアモルファスシリコンの高圧下の水中煮沸による後水素化

Post hydrogenation of sputtered amorphous silicon by pressurized water boiling.
クリップ
著者 (2件)：
SAKAMOTO N

SAKAMOTO N について

(Iwaki Meisei Univ., Fukushima, JPN)

Iwaki Meisei Univ., Fukushima, JPN について

, 
OHMURA Y

OHMURA Y について

(Iwaki Meisei Univ., Fukushima, JPN)

Iwaki Meisei Univ., Fukushima, JPN について


資料名：
Journal of Non-Crystalline Solids  (Journal of Non-Crystalline Solids)

Journal of Non-Crystalline Solids について


巻： 266/269  号： Pt.A  ページ： 146-149  発行年： 2000年05月 
JST資料番号： D0642A  ISSN： 0022-3093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
 スパッタリングにより作製したアモルファスシリコン薄膜を高圧下...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
反応性スパッタリング

反応性スパッタリング について

,...
分類 (1件)：
分類
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 半導体薄膜 
(BK14040E)

半導体薄膜 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
スパッタリング

スパッタリング について

, 
アモルファスシリコン

アモルファスシリコン について

, 
高圧

高圧 について

, 
水中

水中 について

, 
煮沸

煮沸 について

, 
水素化

水素化 について


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