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J-GLOBAL ID：200902188949168612   整理番号：02A0204432

レーザ光散乱法によるSiウエハ付着超微粒子計測

Inspection of Ultra Fine Particles on the Si Wafer Surface Using a Laser Light Scattering Method.

著者 (9件)： 井上晴行 (大阪大 大学院工学研究科) ,  片岡俊彦 (大阪大 大学院工学研究科) ,  遠藤勝義 (大阪大 大学院工学研究科) ,  押鐘寧 (大阪大 大学院工学研究科) ,  森勇蔵 (大阪大 大学院工学研究科) ,  中野元博 (大阪大 大学院工学研究科) ,  安弘 (大阪電通大 工) ,  竹村太一 (大阪大 大学院工学研究科) ,  和田勝男 (シリコンテクノロジー)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 68  号： 2  ページ： 264-268  発行年： 2002年02月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 冷却CCDカメラによるSiウエハ上の微粒子計測装置を用いて,...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (7件)：

• International Technology Roadmap for Semiconductors. 1998
• 松下嘉明. 超精密ウェーハ表面制御技術. サイエンスフォーラム. 2000, 297
• 井上晴行. レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発. 精密工学会誌. 1997, 63, 8, 1117
• 片岡俊彦. シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱-散乱光強度およびレンズによる像形成の計算-. 精密工学会誌. 2000, 66, 11, 1716
• 新田晃久. 米国PMS社の表面付着粒子計数器. 空気清浄. 1990, 28, 1, 43

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ ,  光散乱法 ,  Siウエハ ,  超微粒子 ,  計測