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J-GLOBAL ID：200902169465028862   整理番号：00A1054748

シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 散乱光強度およびレンズによる像形成の計算

Light Scattering by Small particles and Small Defects on the Silicon Wafer Surface. Calculations of Scattering Light Intensity and Optical Image through a Lens.

著者 (8件)： 片岡俊彦 (大阪大 大学院 工学研究科) ,  井上晴行 (大阪大 大学院 工学研究科) ,  遠藤勝義 (大阪大 大学院 工学研究科) ,  押鐘寧 (大阪大 大学院 工学研究科) ,  森勇蔵 (大阪大 大学院 工学研究科) ,  中野元博 (大阪大 大学院 工学研究科) ,  和田勝男 (シリコンテクノロジー) ,  安弘 (大阪電通大 工)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 66  号： 11  ページ： 1716-1722  発行年： 2000年11月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 標記微粒子及び微小欠陥による散乱像の計算法を開発した。光散乱...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： 近視野

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• The National Technology Roadmap for Semiconductors 1997. 1997
• 井上晴行. レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発. 精密工学会誌. 1997, 63, 8, 1117
• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-. 精密工学会誌. 1993, 59, 7, 1121
• BOHREN, C. F. Absorption and Scattering of Light by Small Particles. 1983, 158
• KATAOKA, T. Direct Observation of Glide Dislocations in a KCI Crystal by the Light Scattering Method. Appl. Phys. Letts. 1990, 56, 14, 1317

タイトルに関連する用語 (10件)： シリコンウエハ ,  微粒子 ,  微小 ,  欠陥 ,  光散乱 ,  散乱 ,  光強度 ,  レンズ ,  像形成 ,  計算