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J-GLOBAL ID：200902192274506570   整理番号：01A0758378

インプリントリソグラフィー用のモールドの表面処理

Mold Surface Treatment for Imprint Lithography.

著者 (8件)： HIRAI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIDA S (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  OKAMOTO A (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  TANAKA Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  ENDO M (Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN) ,  IRIE S (Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN) ,  NAKAGAWA H (Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN) ,  SASAGO M (Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14  号： 3  ページ： 457-462  発行年： 2001年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインプリントリソグラフィーにおけるモールドの付着の問題は...

シソーラス用語： *リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： インプリントリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• 1). S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, (1995) 3114.
• 2). J.Haisma, M.Verheijen, K.Heuvel, and J.Berg, J.Vac. Sci. Technol. B14 (1996).
• 3). M.Colburn, S.Johnson, M.Stewart, S.Damle, T.Bailey, B.Choi, M.Wedlake, T.Michaelson, S.V.Sreenivasan, J.Ekerdt and C.G.Willson, Proc. of SPIE 3676, (1999) 378.
• 4). Y. Hirai, T. Kanemaki, M. Fujuwara, T.Yostuya, and Y. Tanaka, J. Photopolymer Sci. and Technol.13, (2000) 435.
• 5). A.W.Adamson, Physical Chemistry of Surfaces, Plenum Press, New York, (1990).

タイトルに関連する用語 (3件)： インプリントリソグラフィー ,  モールド ,  表面処理