極低酸素分圧を用いたCu酸化物クリーニング技術

遠藤和彦; 白川直樹; 吉田良行; 御福英史; 三野哲也; 鈴木英一

文献

J-GLOBAL ID：200902227026917596 整理番号：06A0217498

極低酸素分圧を用いたCu酸化物クリーニング技術

Deoxidization of Cu Oxide under Extremely Low Oxygen Pressure

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巻： 105 号： 598(SDM2005 250-258) ページ： 25-29 発行年： 2006年01月30日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

極低酸素分圧を用いて,Cu表面酸化物を還元除去する新規のクリ...

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固体デバイス製造技術一般 , 反応操作(単位反応) , 特殊加工

引用文献 (8件)：

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