文献

J-GLOBAL ID：200902237147470373   整理番号：06A0504083

スパッタリングにより蒸着されたシリカガラスにおける構造緩和

Structural relaxation in sputter-deposited silica glass

著者 (3件)： HIROSE Tomohiro (Toyota Technological Inst., Res. Center for Advanced Photon Technol., Frontier Material Lab., 2-12-1, Hisakata ...) ,  SAITO Kazuya (Toyota Technological Inst., Res. Center for Advanced Photon Technol., Frontier Material Lab., 2-12-1, Hisakata ...) ,  IKUSHIMA Akira J. (Toyota Technological Inst., Res. Center for Advanced Photon Technol., Frontier Material Lab., 2-12-1, Hisakata ...)
資料名： Journal of Non-Crystalline Solids  (Journal of Non-Crystalline Solids)
巻： 352  号： 21-22  ページ： 2198-2203  発行年： 2006年07月01日 
JST資料番号： D0642A  ISSN： 0022-3093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スパッタリングにより蒸着されたシリカガラスにおける,ガラス転...

シソーラス用語： *石英ガラス ,...
準シソーラス用語： アニーリング ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて 

分類 (1件)： その他の非晶質の構造  (BK04040Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタリング ,  蒸着 ,  シリカガラス ,  構造緩和