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J-GLOBAL ID：200902260155039233   整理番号：06A0340263

低圧表面波プラズマ源におけるラジカルプラズマ密度分布に与える石英側壁影響の検討

Investigation of Quartz Side Wall Influence on Radial Plasma Density Profiles in Low-Pressure Surface Wave Plasma Source

著者 (4件)： SIRY Milan (Shizuoka Univ., Shizuoka, JPN) ,  SAKATA Shinichiro (Shizuoka Univ., Shizuoka, JPN) ,  TEREBESSY Tibor (Shizuoka Univ., Shizuoka, JPN) ,  KANDO Masashi (Shizuoka Univ., Shizuoka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45  号： 4A  ページ： 2749-2756  発行年： 2006年04月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ生成における石英側壁の影響について,大面積表面波プラ...

シソーラス用語： *表面波 ,...

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分類 (2件)： プラズマ一般  (BJ02010B) ,  プラズマ中の電磁波  (BJ02032F)

引用文献 (25件)：

• I. Odrobina, J. Kudela and M. Kando: Plasma Sources Sci. Technol.7(1998)238.
• M. Nagatsu, G. Xu, M. Yamage, M. Kanoh and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys.35(1996) L341.
• S. Nonaka: Jpn. J. Appl. Phys.29(1990)571.
• K. Komachi and S. Kobayashi: J. Microwave Power Electromagn. Energy 24(1989)140.
• M. Moisan, J. Margot and Z. Zakrzewski: High Density Plasma Sources (Noyes Publication, Park Ridge, NJ, 1995).

タイトルに関連する用語 (6件)： 低圧 ,  表面波プラズマ ,  ラジカル ,  プラズマ密度分布 ,  石英 ,  側壁