プラズマ増強化学蒸着による低地球温暖化能力ガスC<sub>4</sub>F<sub>6</sub>を用いた非晶質ふっ化炭素薄膜の作製

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J-GLOBAL ID：200902261682040246 整理番号：06A0204888

プラズマ増強化学蒸着による低地球温暖化能力ガスC₄F₆を用いた非晶質ふっ化炭素薄膜の作製

Preparation of Amorphous Fluorinated Carbon Film Using Low Global-Warming Potential Gas, C₄F₆, by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

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巻： 45 号： 4-7 ページ： L151-L153 発行年： 2006年02月25日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

プラズマ増強化学蒸着(PECVD)によりC_4</s...

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引用文献 (25件)：

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