文献

J-GLOBAL ID：200902267918209547   整理番号：08A0425789

格子間酸素に起因した金属電極/Hf系ゲート絶縁膜の実効仕事関数変調

著者 (9件)： 喜多祐起 (大阪大 大学院) ,  景井悠介 (大阪大 大学院) ,  細井卓治 (大阪大 大学院) ,  志村考功 (大阪大 大学院) ,  渡部平司 (大阪大 大学院) ,  白石賢二 (筑波大) ,  門島勝 (SELETE) ,  奈良安雄 (SELETE) ,  山田啓作 (早稲田大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 55th  号： 2  ページ： 853  発行年： 2008年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *格子間原子 ,  *酸素 ,  *電極 ,  *仕事関数 ,  *絶縁膜 ,  電気特性 ,  CMOS構造 ,  MOS構造

分類 (1件)： 半導体結晶の電子構造  (BM02060N)

タイトルに関連する用語 (8件)： 格子 ,  酸素 ,  起因 ,  金属電極 ,  HF ,  ゲート絶縁膜 ,  仕事関数 ,  変調