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J-GLOBAL ID：200902274414271868   整理番号：07A0478790

Cu(Ti)合金膜中のTiに富む界面層の自己形成

Self-Formation of Ti-rich Interfacial Layers in Cu(Ti) Alloy Films

著者 (3件)： ITO Kazuhiro (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TSUKIMOTO Susumu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MURAKAMI Masanori (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46  号： 4B  ページ： 1942-1946  発行年： 2007年04月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu(Ti)合金膜中のTiに富む界面層の自己形成の機構を研究...

シソーラス用語： 銅合金 ,...
準シソーラス用語： 自己形成

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分類 (2件)： 金属の格子欠陥  (BK12030F) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (13件)：

• A. F. Mayadas and M. Shatzkes: Phys. Rev. B 1(1970) 1382.
• M. Shimada, M. Moriyama, K. Ito, S. Tsukimoto, and M. Murakami: J. Vac. Sci. Technol. B 24(2006) 190.
• P. J. Ding, W. A. Lanford, S. Hymes, and S. P. Murarka: J. Appl. Phys. 75(1994) 3627.
• D. Adams, T. L. Alford, N. D. Theodore, S. W. Russell, R. L. Spreitzer, and J. W. Mayer: Thin Solid Films 262(1995) 199.
• C. J. Liu and J. S. Chen: Appl. Phys. Lett. 80(2002) 2678.

タイトルに関連する用語 (5件)： Cu ,  Ti ,  金膜 ,  界面層 ,  自己形成