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J-GLOBAL ID：200902287817813924   整理番号：03A0836880

βおよび立方晶Si₃N₄間の価電子プラズモンエネルギーおよび状態密度の差

On the difference in valence electron plasmon energy and density of states between beta- and cubic-Si₃N₄

著者 (4件)： EGDELL R G (Inorganic Chemistry Lab., Oxford, GBR) ,  HENRICH V E (Inorganic Chemistry Lab., Oxford, GBR) ,  BOWDLER R (Dyson Perrins Lab., Oxford, GBR) ,  SEKINE T (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 94  号： 10  ページ： 6611-6615  発行年： 2003年11月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単色Al K_α線で励起してβ-Si<s...

シソーラス用語： *窒化ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 固体プラズマ  (BM02160W) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 立方晶 ,  Si3N4 ,  価電子 ,  プラズモン ,  エネルギー ,  状態密度