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J-GLOBAL ID：200902295312664706   整理番号：07A0283547

フラッシュランプアニーリングに対する熱輸送分析

Heat Transport Analysis for Flash Lamp Annealing

著者 (4件)： HABUKA Hitoshi (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  HARA Akiko (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  KARASAWA Takeshi (Ushio, Inc., Hyogo, JPN) ,  YOSHIOKA Masaki (Ushio, Inc., Hyogo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46  号： 3A  ページ： 937-942  発行年： 2007年03月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フラッシュランプアニーリングの際のけい素ウエハの温度変化を理...

シソーラス用語： 閃光電球 ,...
準シソーラス用語： 熱放射 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (15件)：

• V. Faifer and M. Current: Semicond. Int. Jpn.(Jan., 2006) 30.
• J. Stoemenos, D. Panknin, M. Eickhoff, V. Heera, and W. Skorupa: J. Electrochem. Soc.151(2004) G136.
• W. Skorupa, T. Gebel, R. A. Yankov, S. Paul, W. Lerch, D. F. Downey, and E. A. Arevalo: J. Electrochem. Soc.152(2005) G436.
• W. Skorupa, R. A. Yankov, W. Anwand, M. Voelskow, T. Gebel, D. F. Downey, and E. A. Arevalo: Mater. Sci. Eng. B 114-115(2004)358.
• K. H. Heinig, K. Hohmuth, R. Klabes, and M. Voelskow: Radiat. Eff.63(1982)115.

タイトルに関連する用語 (2件)： 熱輸送 ,  分析