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J-GLOBAL ID：200902299302868961   整理番号：06A0340259

多重パルスエキシマレーザアニールによる多結晶シリコンの粒子拡大:水素の役割

Grain Enlargement of Polycrystalline Silicon by Multipulse Excimer Laser Annealing: Role of Hydrogen

著者 (9件)： KAWAMOTO Naoya (Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN) ,  MASUDA Atsushi (Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  MATSUO Naoto (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  SERI Yasuhiro (Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  NISHIMORI Toshimasa (Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN) ,  KITAMON Yoshitaka (Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN) ,  MATSUMURA Hideki (Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  HAMADA Hiroki (SANYO Electric Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  MIYOSHI Tadaki (Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45  号： 4A  ページ： 2726-2730  発行年： 2006年04月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エキシマレーザアニール(ELA)中における溶融Siへの水素の...

シソーラス用語： *エキシマレーザ ,...

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分類 (2件)： その他の非晶質の構造  (BK04040Z) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (21件)：

• J. S. Im, H. J. Kim and M.0. Thompson: Appl. Phys. Lett.63(1993)1969.
• R. S. Sposili and J. S. Im: Appl. Phys. Lett.69(1996)2864.
• C. H. Oh, M. Ozawa and M. Matsumura: Jpn. J. Appl. Phys.37(1998) L492.
• T. Sameshima, M. Hara and S. Usui: Jpn. J. Appl. Phys.28(1989)1789.
• R. lshihara, P. C. van der Wilt, B. D. van Dijk, A. Burtsev, J. W. Metselaar and C. I. M. Beenakker: Dig. Tech. Pap. AM-LCD, 2002, p. 53.

タイトルに関連する用語 (5件)： 多重 ,  多結晶シリコン ,  拡大 ,  水素 ,  役割