洗浄装置、洗浄方法及び半導体製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新居広守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-348094
公開番号（公開出願番号）：特開2004-186208
出願日： 2002年11月29日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】洗浄能力および再生効率が高く小型化に適した循環再利用型の洗浄装置を提供する。【解決手段】再生装置33は、2つの洗浄槽のうち第1洗浄槽19の使用済の洗浄液だけを再生し、再生された洗浄液は、ポンプ35によって第2洗浄槽20の上のノズル管40に供給され第2洗浄槽20での洗浄液として使用される。第2洗浄槽20における使用済の洗浄液は、ポンプ24によって回収タンク22からノズル管29に供給され、第1洗浄槽19での洗浄液として使用される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも二段階の洗浄により基材の有機皮膜を除去する洗浄装置であって、第1段階の洗浄による使用済の洗浄液を再生する再生手段と、再生された洗浄液を最後段階に供給する第1供給手段と、前後する2つの段階の間で後段の洗浄による使用済の洗浄液を前段に洗浄液として供給する第2供給手段とを備えることを特徴とする洗浄装置。

IPC (9件)：

H01L21/304 , B08B3/02 , B08B3/04 , B08B3/10 , B08B3/14 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G03F7/42 , H01L21/027

FI (10件)：

H01L21/304 648K , H01L21/304 643B , B08B3/02 C , B08B3/04 B , B08B3/10 Z , B08B3/14 , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500 , G03F7/42 , H01L21/30 572B

Fターム (26件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA16 , 2H088MA20 , 2H090JB02 , 2H090JC19 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 3B201AA01 , 3B201AB14 , 3B201AB47 , 3B201BB02 , 3B201BB22 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201BB95 , 3B201CC12 , 3B201CD22 , 3B201CD41 , 5F046MA02 , 5F046MA03 , 5F046MA05 , 5F046MA19

引用特許：

審査官引用 (8件)

化学処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-087352 出願人：松下電器産業株式会社
洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-287876 出願人：株式会社日立製作所
レジスト剥離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-322342 出願人：東レ株式会社

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