特許
J-GLOBAL ID：200903000215957590

パターンマッチング方法、及びパターンマッチングを行うためのコンピュータープログラム

発明者：
杉山 明之

杉山 明之 について

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新藤 博之

新藤 博之 について

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小室 仁

小室 仁 について

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酢谷 拓路

酢谷 拓路 について

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諸熊 秀俊

諸熊 秀俊 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-084445
公開番号（公開出願番号）：特開2007-256225
出願日： 2006年03月27日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】本発明の目的の1つは、周期的構造を含む試料上でも適正な測定対象パターンを選択することが可能なパターンマッチング方法、及びそのパターンマッチングをコンピューターに実行させるためのコンピュータープログラムの提供にある。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、対象試料の設計データに基づく第1の画像と、第2の画像との間でマッチングを行うパターンマッチング方法において、マッチングを行う領域に、周期的な構造が含まれているか否かを判定し、含まれている場合には、画像内に設定される原点と、周期的な構造を構成するパターンとの距離に基づいて、含まれていない場合には、画像内におけるパターンの一致度に基づいて、パターンを選定するパターンマッチング方法、及びコンピュータープログラムを提供する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
対象試料の設計データに基づく第1の画像と、第2の画像との間でマッチングを行うパターンマッチング方法において、 前記第1の画像と第2の画像のマッチングを行う領域に、周期的な構造が含まれているか否かを判定し、前記領域に周期的な構造が含まれている場合には、前記画像内に設定される原点と、前記周期的な構造を構成するパターンとの間の距離に基づいて、前記パターンを選定し、前記領域に周期的な構造が含まれていない場合には、前記画像内におけるパターンの一致度に基づいて、前記パターンを選定することを特徴とするパターンマッチング方法。
IPC (5件)：
G01N 23/225 ,  G06T 1/00 ,  G06T 7/60 ,  H01L 21/66 ,  G06T 7/00
FI (5件)：
G01N23/225 ,  G06T1/00 305A ,  G06T7/60 150B ,  H01L21/66 J ,  G06T7/00 300D
Fターム (55件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA01 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ39 ,  5B057AA03 ,  5B057BA19 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC02 ,  5B057CD08 ,  5B057CE09 ,  5B057CH11 ,  5B057CH18 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC09 ,  5B057DC33 ,  5B057DC36 ,  5L096BA03 ,  5L096BA18 ,  5L096CA03 ,  5L096FA02 ,  5L096FA04 ,  5L096FA06 ,  5L096FA24 ,  5L096FA34 ,  5L096FA55 ,  5L096FA59 ,  5L096FA60 ,  5L096FA65 ,  5L096FA69 ,  5L096HA07 ,  5L096JA03 ,  5L096JA09
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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