特許
J-GLOBAL ID：200903028412229808

電子ビームを用いる測長方法および電子ビームを用いる測長装置

発明者：
小林 秀章

小林 秀章 について

, 
児島 幸一郎

児島 幸一郎 について

, 
河島 司

河島 司 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-211054
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331495
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 試料の測定対象パターンが、単位のパターンを繰り返して配したパターンの一部である場合にも、一意的に測定する二次電子像のパターン位置を特定し、精度的にも問題なく測長できる電子ビームを用いる測長方法及び測長装置を提供する。【解決手段】 位置特定用パターンとのパターンマッチング度合を評価するパターンマッチング処理を、電子ビームを試料上に走査して得られる二次電子像(SEM像)の表示領域全体について行い、そのパターンマッチング度合の評価の点数PM(i)と、位置評価の点数PL(i)を加味して、総合的に点数評価する総合評価をして、各候補パターンPTi(i=1〜N)の総合評価の点数TE(i)により、選別された各候補パターンの中から、1つを、前記位置特定用パターンに対応する二次電子像のパターンとして選択し、該二次電子像のパターンの位置を基にして、測長する二次電子像のパターンの位置を決めて、測長する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電子ビームを試料上に走査して得られる二次電子像(SEM像)から測長すべき箇所を特定して測長を行う、電子ビームを用いる測長方法であって、電子ビームを試料上に走査して得られる二次電子像(SEM像)を表示する表示領域内の絵柄の一部を表す、CADデータ上の、二次電子像の測長すべき位置を特定するための所定サイズ領域の位置特定用パターン(テンプレートパターン)と、前記表示領域全体に対応する画像データ内の、前記所定サイズ領域と同じサイズ領域の各二次電子像パターンとの、パターンマッチング度合を点数評価する、パターンマッチング処理を、前記二次電子像(SEM像)の表示領域全体について行い、得られた各二次電子像パターンの、パターンマッチング度合の点数評価の結果から、マッチング程度の良いものから順に、複数N個だけ、選別し、選別された各二次電子像パターンを、前記位置特定用パターンに対応する二次電子像のパターンの候補パターンPTi(i=1〜N)とし、更に、選別された各候補パターンPTi(i=1〜N)について、表示領域の中心からの距離(位置ズレ量)DLiに対応して、点数評価する位置評価をし、選別された各候補パターンPTi(i=1〜N)について、そのパターンマッチング度合の評価の点数PM(i)と、位置評価の点数PL(i)を加味して、総合的に点数評価する総合評価をして、各候補パターンPTi(i=1〜N)の総合評価の点数TE(i)により、選別された各候補パターンPTi(i=1〜N)の中から、1つを、前記位置特定用パターンに対応する二次電子像のパターンとして選択し、該二次電子像のパターンの位置を基にして、測長する二次電子像の位置を決めて、これを測長すべき二次電子像のパターンの測長位置として、測長するものであることを特徴とする電子ビームを用いる測長方法。
IPC (2件)：
G01B15/00 ,  H01J37/22
FI (2件)：
G01B15/00 B ,  H01J37/22 502H
Fターム (7件)：
2F067AA26 ,  2F067EE10 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067RR30 ,  2F067RR35
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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