特許
J-GLOBAL ID:200903000925593821

電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-392898
公開番号(公開出願番号):特開2003-195347
出願日: 2001年12月25日
公開日(公表日): 2003年07月09日
要約:
【要約】【課題】 製造コストの増大を最小限に抑えながら、光散乱機能を備えた光反射膜を好適な状態に形成することのできる電気光学装置、およびそれを備えた電子機器を提供すること。【解決手段】 反射型電気光学装置100のTFTアレイ基板10において、光反射膜8aの下層側には、データ線6aと同層の凹凸形成層6gが所定のパターンで形成され、その上層には、感光性樹脂7に対して、露光マスク200を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って感光性樹脂層7aを形成してある。この感光性樹脂層7aは、凹凸形成層6gの形成領域で厚くて凹凸形成層6gの非形成領域で薄く、かつ、表面形状がなだらかである。従って、光反射膜8aの表面に、エッジのない、なだらかな形状の凹凸パターン8gを付与できる。
請求項(抜粋):
電気光学物質を挟持する基板上には、各画素毎に少なくとも、一つまたは複数の配線に電気的に接続する画素スイッチング用のアクティブ素子と、光反射膜とを備えた電気光学装置において、前記光反射膜の下層側のうち、当該光反射膜と平面的に重なる領域には、前記配線、または当該配線の層間、上層側、もしくは下層側に形成された絶縁膜と同層の薄膜からなる凹凸形成層が少なくとも1層、形成されているとともに、前記凹凸形成層の上層側には、当該凹凸形成層の上層に塗布した感光性樹脂によって、前記凹凸形成層の形成領域で厚く、前記凹凸形成層の非形成領域で薄い感光性樹脂層がなだらかな表面形状をもって形成され、前記光反射膜の表面には、前記凹凸形成層および前記感光性樹脂層によって所定の凹凸パターンが形成されていることを特徴とする電気光学装置。
IPC (6件):
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/35
FI (6件):
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/35
Fターム (71件):
2H090HA04 ,  2H090HC11 ,  2H090HD05 ,  2H090JA07 ,  2H090LA04 ,  2H090LA20 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA14X ,  2H091FA14Z ,  2H091FB04 ,  2H091FD06 ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091GA11 ,  2H091GA13 ,  2H091HA07 ,  2H091HA10 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  2H092GA29 ,  2H092GA51 ,  2H092HA27 ,  2H092JA03 ,  2H092JA25 ,  2H092JA26 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA46 ,  2H092JB22 ,  2H092JB61 ,  2H092KA04 ,  2H092KB25 ,  2H092MA05 ,  2H092MA07 ,  2H092MA08 ,  2H092MA13 ,  2H092MA15 ,  2H092MA19 ,  2H092MA30 ,  2H092MA41 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092PA01 ,  2H092PA02 ,  2H092PA06 ,  2H092PA08 ,  2H092PA12 ,  2H092QA07 ,  2H092QA10 ,  5C094AA02 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094EA04 ,  5C094EA06 ,  5C094EA07 ,  5C094ED11 ,  5C094FA04 ,  5G435AA01 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435BB16 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09
引用特許:
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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