発光装置およびその作製方法、製造装置の操作方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-044046
公開番号（公開出願番号）：特開2003-317955
出願日： 2003年02月21日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：

【要約】【課題】アクティブマトリクス方式の発光装置においても、TFTはEL層の下方に配置されるため、EL層上に金属層を形成する方法として電子銃蒸着法を採用しても問題ないと予想していた。しかしながら、TFTは、電子銃により発生するイオン化された蒸発粒子や2次電子や反射電子などに対して非常に敏感であり、電子銃蒸着法を用いた場合、EL層への損傷はほとんど見られないものの、TFTへの損傷が大きいことが判明した。【解決手段】本発明は、アクティブマトリクス方式の発光装置において、TFTへの影響が最も少ない抵抗加熱法を用いて、有機化合物層および金属層(陰極または陽極)を形成することによって、優れたTFT特性(オン電流、オフ電流、Vth、S値など)を有する発光装置を作製することができる。

請求項（抜粋）：

陰極と、該陰極に接する有機化合物を含む層と、該有機化合物を含む層に接する陽極とを有する発光素子と、該発光素子に接続されるTFTとを有する発光装置の作製方法であって、抵抗加熱で蒸着材料を加熱する蒸着法により、前記有機化合物を含む層と、金属材料からなる前記陰極とを形成することを特徴とする発光装置の作製方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 , C23C 14/06 , H05B 33/14 , H05B 33/26

FI (4件)：

H05B 33/10 , C23C 14/06 Q , H05B 33/14 A , H05B 33/26 Z

Fターム (19件)：

3K007AB18 , 3K007CC00 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4K029BA02 , 4K029BA07 , 4K029BA10 , 4K029BA12 , 4K029BA13 , 4K029BA15 , 4K029BA18 , 4K029BA62 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029CA01 , 4K029DB18 , 4K029DB23 , 4K029HA02

引用特許：

審査官引用 (12件)

有機EL素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-325557 出願人：出光興産株式会社, 日本真空技術株式会社
有機薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-019292 出願人：アネルバ株式会社
有機エレクトロルミネッセンス素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-225812 出願人：パイオニア株式会社, 東北パイオニア株式会社

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