特許
J-GLOBAL ID:200903001079269311

研磨パッドのコンディショニング装置及びこれを用いた研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安齋 嘉章
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-232678
公開番号(公開出願番号):特開2003-048147
出願日: 2001年07月31日
公開日(公表日): 2003年02月18日
要約:
【要約】【課題】 被研磨体を研磨するための研磨パッドのコンディショニング作業に異常が生じた場合、これを確実に検知することが可能な研磨パッドのコンディショニング装置及びこれを用いた研磨装置を提供する。【解決手段】 研磨パッドのコンディショニング装置は、研磨パッドの表面をコンディショニングするための回転可能なコンディショニング手段と、コンディショニング手段を回転させるための駆動源と、コンディショニング手段の回転を検知する回転検知手段とを備えている。
請求項(抜粋):
研磨パッドの表面をコンディショニングするための回転可能なコンディショニング手段と、前記コンディショニング手段を回転させるための駆動源と、前記コンディショニング手段の回転を検知する回転検知手段とを備えた研磨パッドのコンディショニング装置。
IPC (3件):
B24B 37/00 ,  B24B 53/00 ,  H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 37/00 A ,  B24B 53/00 A ,  H01L 21/304 622 M
Fターム (12件):
3C047AA34 ,  3C047FF08 ,  3C047FF11 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA16 ,  3C058AA19 ,  3C058AC03 ,  3C058BA09 ,  3C058CB06 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (6件)
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