特許
J-GLOBAL ID:200903001106158080
電気光学装置の製造方法及び電気光学装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-229452
公開番号(公開出願番号):特開2002-040455
出願日: 2000年07月28日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】 液晶等の電気光学物質における横電界による動作不良を確実に低減可能であり高コントラストで明るい高品位の画像表示を行う液晶装置等の電気光学装置を製造する。【解決手段】 電気光学装置は、TFTアレイ基板(10)上に画素電極(9a)を備え、対向基板(20)上に対向電極(21)を備える。TFTアレイ板上における画素電極の下地面は、相隣接する画素電極間の間隙に対向する領域に凸部(81、82)が設けられている。このような電気光学装置の製造方法は、TFTアレイ基板上に、配線やTFT等を含むパターンを形成する形成工程と、このパターンを含む基板上の積層体の上面を平坦化する工程と、この平坦化された上面に対してフォトリソグラフィ及びエッチングを行うことにより、凸部を形成する工程とを含む。
請求項(抜粋):
一対の第1及び第2基板間に電気光学物質が挟持されてなり、第1の周期で反転駆動されるための第1の画素電極群及び該第1の周期と相補の第2の周期で反転駆動されるための第2の画素電極群を含む複数の画素電極が前記第1基板上に平面配列され且つ前記第2基板上に前記複数の画素電極と対向する対向電極が設けられた電気光学装置の製造方法であって、前記第1基板上に、前記画素電極を駆動する配線及び素子を含むパターンを形成する形成工程と、該パターンを含む前記第1基板上の積層体の上面を平坦化する工程と、該平坦化された上面に対してフォトリソグラフィ及びエッチングを行うことにより、平面的に見て相隣接する画素電極の間隙となる領域に凸部を形成する工程と、前記複数の画素電極を形成する工程とを備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (6件):
G02F 1/1343
, G02F 1/133 525
, G02F 1/1337 500
, G02F 1/1368
, G09F 9/00 342
, G09F 9/30 348
FI (6件):
G02F 1/1343
, G02F 1/133 525
, G02F 1/1337 500
, G09F 9/00 342 Z
, G09F 9/30 348 A
, G02F 1/136 500
Fターム (52件):
2H090HA04
, 2H090HC05
, 2H090HD03
, 2H090HD14
, 2H090JA03
, 2H090JC03
, 2H090LA01
, 2H090LA04
, 2H090MB01
, 2H090MB05
, 2H092JA25
, 2H092JA46
, 2H092JB02
, 2H092JB04
, 2H092JB24
, 2H092JB33
, 2H092JB52
, 2H092JB56
, 2H092JB58
, 2H092KA03
, 2H092KB22
, 2H092KB25
, 2H092MA18
, 2H092MA31
, 2H092NA04
, 2H092PA02
, 2H092PA06
, 2H093NA16
, 2H093NA32
, 2H093NC34
, 2H093NC36
, 2H093ND35
, 2H093NE02
, 2H093NE03
, 2H093NE04
, 5C094AA06
, 5C094AA10
, 5C094AA42
, 5C094AA43
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA15
, 5C094FA02
, 5C094FB14
, 5C094GB01
, 5G435AA02
, 5G435AA03
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435CC09
, 5G435KK05
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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