特許
J-GLOBAL ID：200903001214302707
試料作製装置および試料作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-323248
公開番号（公開出願番号）：特開2005-091094
出願日： 2003年09月16日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】 観察に適した良好な試料を作製できる試料作製装置および試料作製方法を提供する。【解決手段】 試料6のイオンエッチング中に、試料ステージが傾斜軸kの周りに繰り返し往復傾斜される。このため、図9(b)に示すように、試料6は遮蔽材12と一緒に矢印Tで示すように繰り返し往復傾斜されながらイオンエッチングされる。このようにすれば、従来において前記物質Mで隠されていた非エッチング部Sa(図9(b)参照)もエッチングされ、その結果物質Mを試料6から切り離すことができる。そして最終的に図9(c)に示すように、遮蔽材12のエッジ端部12aを境界として試料6に照射されたイオンビームIBによって、試料6上の前記試料加工位置S0およびその周辺部がエッチングされる。図9(c)において、Sはオペレーターが得たかった試料断面であり、この試料断面Sは後で走査電子顕微鏡などで観察される。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
真空チャンバ内に配置され、試料にイオンビームを照射するためのイオンビーム照射手段と、
前記真空チャンバ内に配置され、前記イオンビームにほぼ垂直な方向の傾斜軸をもつ傾斜ステージと、
その傾斜ステージ上に配置され、前記試料を保持する試料ホルダと、
前記傾斜ステージ上に位置し、前記試料を照射するイオンビームの一部を遮る遮蔽材と
を備えた試料作製装置であり、
前記傾斜ステージの傾斜角を変化させながら、前記イオンビームによる試料加工を行うようにしたことを特徴とする試料作製装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2G052DA33
, 2G052EC14
, 2G052EC18
, 2G052GA32
, 2G052GA34
, 2G052GA35
, 2G052HC06
, 2G052JA16
, 5C001AA01
, 5C001AA05
, 5C001CC08
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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