特許
J-GLOBAL ID：200903001277448280

塗布方法及び塗布装置

発明者：
河野 幸弘

河野 幸弘 について

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田中 志信

田中 志信 について

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大塚 慶崇

大塚 慶崇 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-147767
公開番号（公開出願番号）：特開2005-052821
出願日： 2004年05月18日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】 被処理基板の上面または被処理面に近接する高さ位置でノズルを走査させる塗布動作を安全に行うこと。【解決手段】ノズル障害モニタ168は、ステージ132上に載置されている基板Gの上面近傍を所定の高さ位置でY方向にほぼ水平に横断するようにレーザビームLBを出射するレーザ出射部222と、ステージ132上の基板Gを挟んでY方向でレーザ出射部222と対向する位置に配置される受光部224とを有する。塗布処理部136においてレジスト塗布処理が行なわれるとき、走査部212の走査駆動によってレジストノズル134と一緒に、かつその前方でノズル障害モニタ168のレーザビームLBも基板Gの上方をX方向に走査し、基板Gの上面近傍に障害物があるか否かを検査する。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
被処理基板を第1の高さ位置でほぼ水平に支持し、前記基板の上面に向けて上方の近接した位置から塗布液を吐出するノズルを前記基板に対して相対的に水平方向に移動させる走査を行って、前記基板の上面に前記塗布液を塗布する塗布方法において、 前記ノズルの走査に先立って前記第1の高さ位置で支持されている前記基板の上面近傍を第2の高さ位置でほぼ水平に横断するように指向性の高い光ビームを光ビーム出射部より出射し、 前記基板を挟んで前記光ビーム出射部と対向する位置に配置される受光部で前記光ビームを受光して電気信号に変換し、 前記受光部より出力される前記電気信号に基づいて、前記基板の上方で前記走査を行うべき前記ノズルについて前記第2の高さ位置における実質的な障害物の有無を判定し、 前記判定の結果にしたがって前記基板に対する前記ノズルの走査の実行、中止または中断を選択する塗布方法。
IPC (5件)：
B05D3/00 ,  B05C5/02 ,  B05C11/00 ,  B05D1/26 ,  H01L21/027
FI (5件)：
B05D3/00 D ,  B05C5/02 ,  B05C11/00 ,  B05D1/26 Z ,  H01L21/30 564Z
Fターム (30件)：
4D075AC02 ,  4D075AC73 ,  4D075AC78 ,  4D075AC84 ,  4D075AC86 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075BB56X ,  4D075BB57X ,  4D075BB65X ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041CA02 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042DH09 ,  5F046JA02 ,  5F046JA21 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板保持装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-271229   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (8件)
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