特許
J-GLOBAL ID:200903001414954016

インクジェット記録ヘッドの製造方法、及びインクジェット記録ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  岩田 慎一 ,  緒方 雅昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-356785
公開番号(公開出願番号):特開2006-159763
出願日: 2004年12月09日
公開日(公表日): 2006年06月22日
要約:
【課題】吐出特性の向上が可能なインクジェット記録ヘッド形成方法を提供する。【解決手段】基板上にインク流路パターンを光分解性ポジ型レジスト樹脂で形成する工程と、その上に光カチオン重合開始剤を含有し且つエポキシ樹脂を主成分とするネガ型レジストであるノズル構成樹脂層を塗布、露光、ベークする工程を、それぞれインク流路パターンとインク出口パターンについて1回ずつ行う工程と、各ノズル構成樹脂層における未露光部を一括にて現像する工程と、前記形成した光分解可能な樹脂を除去する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする、インクジェット記録ヘッド製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
発熱抵抗体が形成された基板面に対して垂直にインク液滴が吐出されるインクジェット記録ヘッドの製造方法において、 (1) 該基板上にポジ型レジストである光分解可能な樹脂を用いて、前記発熱抵抗体がその底部に位置するように、インク流路パターンを形成する工程と、 (2) 前記光分解可能な樹脂上に、光カチオン重合開始剤を含有し且つエポキシ樹脂を主成分とするネガ型レジストである第一のノズル構成樹脂層を塗布し、該第一のノズル構成樹脂層に露光、ベークにて、インク流路パターンを形成する工程と、 (3) 前記第一のノズル構成樹脂層上に、光カチオン重合開始剤を含有し且つエポキシ樹脂を主成分とするネガ型レジストである第二のノズル構成樹脂層を塗布し、該第二のノズル構成樹脂層に露光、ベークにて、インク吐出口パターンを形成する工程と、 (4) 前記第一及び第二のノズル構成樹脂層の各層における未露光部を一括にて現像する工程と、 (5) 前記(1)にて形成した光分解可能な樹脂を除去する工程と、 を少なくとも含むことを特徴とする、インクジェット記録ヘッド製造方法。
IPC (1件):
B41J 2/16
FI (1件):
B41J3/04 103H
Fターム (10件):
2C057AF43 ,  2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AG46 ,  2C057AP02 ,  2C057AP37 ,  2C057AP47 ,  2C057AP57 ,  2C057BA04 ,  2C057BA13
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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