フォトマスクブランクス及びその製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-353044
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156743
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【解決手段】透明基板上に少なくとも一層の遮光膜と少なくとも一層の反射防止膜とを有するフォトマスクブランクスにおいて、上記遮光膜がフッ素を含まないクロム系膜、上記反射防止膜がフッ素原子を含み且つSi原子を含むクロム系膜とを組み合わせた複合膜から形成されてなることを特徴とするフォトマスクブランクス。【効果】本発明によれば、露光光248nm以下でも低い反射率を有する高品質なフォトマスクブランクスを得ることができる。

請求項（抜粋）：

透明基板上に少なくとも一層の遮光膜と少なくとも一層の反射防止膜とを有するフォトマスクブランクスにおいて、上記遮光膜がフッ素を含まないクロム系膜、上記反射防止膜がフッ素原子を含み且つSi原子を含むクロム系膜とを組み合わせた複合膜から形成されてなることを特徴とするフォトマスクブランクス。

IPC (4件)：

G03F 1/14 , C23C 14/14 , C23C 14/34 , G03F 1/08

FI (4件)：

G03F 1/14 F , C23C 14/14 G , C23C 14/34 M , G03F 1/08 G

Fターム (11件)：

2H095BC05 , 2H095BC08 , 2H095BC14 , 4K029BA41 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029CA06 , 4K029DC03 , 4K029DC34 , 4K029HA02

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭63-032553
ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-361548 出願人：ホーヤ株式会社
特開平3-182752

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