特許
J-GLOBAL ID：200903001700044426

露光方法

発明者：
西 健爾

西 健爾 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-141319
公開番号（公開出願番号）：特開平9-326344
出願日： 1996年06月04日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 露光用照明光の波長を短くすることなく、焦点深度のマージンに関する条件を満たした上でより解像度を向上させる。【解決手段】 光源1からの照明光ILのもとで、レチクルRのパターンの像を投影光学系PLを介してウエハW上に投影した状態で、レチクルR及びウエハWを投影光学系PLに対して同期走査して露光を行う。フォーカス制御精度、下地パターンの段差、及びフォトレジストに所定係数を乗じて得られる幅の和が焦点深度より小さいという焦点深度のマージンに関する条件を、投影光学系の開口数を大きくしても満たせるように、フォトレジストを薄くする。フォトレジストを薄くすると、フォトレジストの厚さむらに応じて積算露光量の目標値を変える必要があるため、レジスト厚測定装置46でレジスト厚を計測し、この計測結果に基づいて積算露光量を制御する。
請求項（抜粋）：
露光用照明光のもとでマスク上の転写用パターンを感光材料が塗布された基板上に転写露光する露光方法において、前記基板上に塗布された前記感光材料の厚さに応じて前記露光用照明光の積算露光量を制御することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (5件)：
H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 Z ,  H01L 21/30 518
引用特許：
審査官引用 (8件)
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