特許

J-GLOBAL ID：200903001873129001

基板ホルダ、露光装置及びデバイスの製造方法

発明者： 松崎 勤
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-135977
公開番号（公開出願番号）：特開2007-311374
出願日： 2006年05月16日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：

【課題】 基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく密着させることができる基板ホルダを提供する。【解決手段】 基板を載置する基板載置面14と、前記基板の少なくとも一部を、前記基板載置面14と平行な方向に移動可能にして、該基板の変形を補正する基板補正機構15,19とを備えることを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板を載置する基板載置面と、 前記基板の少なくとも一部を、前記基板載置面と平行な方向に移動可能にして、該基板の変形を補正する基板補正機構と、 を備えることを特徴とする基板ホルダ。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/68 P ,  H01L21/30 503C

Fターム (14件)：

5F031CA05 ,  5F031HA13 ,  5F031JA08 ,  5F031JA10 ,  5F031JA22 ,  5F031JA33 ,  5F031JA51 ,  5F031MA27 ,  5F031PA13 ,  5F031PA18 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11 ,  5F046DB05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板吸着装置及び基板吸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-240277   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (4件)

• パターン露光装置用試料台
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-053793   出願人：日本電気株式会社
• 露光装置のステージ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-107208   出願人：九州日本電気株式会社
• ワーク搬送テーブル、ワーク搬送装置、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-335844   出願人：セイコーエプソン株式会社
• ウェーハ吸着ステージ及びウェーハの吸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-350180   出願人：新光電気工業株式会社