特許
J-GLOBAL ID：200903001934585021
マスクをアースに電気的に接続するためのシステム、マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
, 浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-176008
公開番号（公開出願番号）：特開2007-013149
出願日： 2006年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】超紫外線(EUV)を使うリソグラフィ装置用の反射性マスクの作成中およびそのマスクをEUVリソグラフィ装置で使うときに、静電帯電による誤差を避けるためにマスク面をアースするが、そのために使う導電ピンが導電性被膜を傷つけ、粒子を発生することがある。これを避けるアースシステムおよびマスクを提供する。【解決手段】このシステムは、アースに接続してあり且つマスクMAの少なくとも一部を覆う導電性被膜50と電気的に接触するように構成した導体CNを含み、この導電性被膜が金属ベース化合物から成る層を含む。この金属ベース化合物の導電性被膜は、導電率が十分に高く、高硬度および高化学安定性を示し、耐摩耗性があるので導体CNに掛ける圧力により被膜が傷つき粒子が発生することが少ない。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
EUVリソグラフィ用のマスクをアースに電気的に接続するためのシステムであって、アースに接続してあり且つ上記マスクの少なくとも一部を覆う導電性被膜と電気的に接触するように構成した導体を含み、この導電性被膜が金属ベース化合物から成る層を含むシステム。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 531A
, H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA10
, 2H095BB10
, 2H095BB25
, 5F046GA03
, 5F046GA12
, 5F046GD07
, 5F046GD16
