特許

J-GLOBAL ID：200903094151862896

マスクハンドリング装置、平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子

発明者： ヨハネス ウベルトウス ヨゼフィナ モールス ,  ファディム イエフゲニエビッチ バニネ ,  マルチヌス ヘンドリクス アントニウス レーンデルス ,  ヘンリイ ジェラルド カトー ヴェルイユ ,  ウーゴ マチウ フィッセル ,  ゲリト - ヤン ヘーレンス ,  エリク レオナルドウス ハム ,  ハンス メイリンク ,  エリク ロエロフ ロープシュトラ ,  スヨエルト ニコラース ラムベルトウス ドンデルス
出願人/特許権者： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252721
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124463
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 本発明はマスクあるいは汚染からの保護を要するその他の要素に汚染粒子が到来しないようするマスクハンドリング装置あるいは平板投影装置において効果的であり、一方投影ビームの許容し得ない減衰を阻止する粒子遮蔽体を提供する。【解決手段】 平板投影装置においては、マスクのような対象物が電磁界を利用して粒子遮蔽体によって漂遊汚染粒子から遮蔽される。前記電界は均一な電界、非均一な電界、あるいは光学ブリーズでよい。粒子遮蔽手段はマスクではなくて、マスクホルダに固定される。

請求項（抜粋）：

放射線の投影ビームを供給する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するよう作用するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、前記基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを含む平板投影装置において、遮蔽すべき対象物に粒子が入射されるのを阻止するために電磁界を発生する粒子遮蔽手段を含むことを特徴とする平板投影装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

G03F 1/14 M ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 T ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 515 F

Fターム (32件)：

2H095BA02 ,  2H095BA07 ,  2H095BE12 ,  2H097AA02 ,  2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097BA04 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097DA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031DA12 ,  5F031EA14 ,  5F031EA18 ,  5F031GA35 ,  5F031GA37 ,  5F031HA46 ,  5F031HA53 ,  5F031JA01 ,  5F031JA45 ,  5F031KA06 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA13 ,  5F031PA23 ,  5F046BA03 ,  5F046CB27 ,  5F046CC02 ,  5F046DA06

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 半導体製造用露光装置およびこれを用いた半導体デバイス製造プロセス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-265688   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭62-104034
  
• 紫外線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-195706   出願人：株式会社ニコン
• マスクの異物除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-064122   出願人：キヤノン株式会社
• 微粒子除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-279698   出願人：株式会社ニコン
• レチクル洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-233437   出願人：山口日本電気株式会社
• 集塵器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-184551   出願人：日本電気株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-173450   出願人：株式会社ニコン