特許
J-GLOBAL ID：200903002304884329

露光装置及び露光方法

発明者：
谷口 哲夫

谷口 哲夫 について

, 
鈴木 広介

鈴木 広介 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-304228
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133570
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】 非常に微細な回路パターンであっても、正確な露光が可能な露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 レチクルR上に複数の照度分布計測用チャートCiと同期精度計測用チャートCsとを形成する。前記照度分布計測用チャートCiには、第1〜第4周期パターンRMp1〜RMp4を設ける。前記同期精度計測用チャートCsには、第1、第2計測パターンRMs1、RMs2を設ける。そして、各パターンRMp1〜RMp4、RMs1、RMs2を露光光により照明し、そのパターンの投影光学系を通過した投影像を、ウエハステージ上に配設された基準板上の開口部を介して受光センサで検出する。その受光センサからの受光量信号に基づいて、露光光の露光領域内における照度分布及びレチクルステージとウエハステージとの同期移動の精度を計測する。
請求項（抜粋）：
マスクステージ上に保持されたマスク上に形成された所定のパターンを露光光により照明する照明光学系と、前記照明光学系の照明により形成された前記パターンの像を基板ステージ上に載置された基板に投影する投影光学系とを備えた露光装置において、前記基板ステージ上に配設され、所定の開口部を有する基準板と、前記マスクステージ上に保持されるマスクに形成された所定のマークパターンの像を前記開口部を介して検出する受光センサとを備え、前記マークパターンの像を前記露光光の照射領域内の複数位置で前記受光センサを用いて検出し、前記露光光の前記照射領域内での照度分布を計測する照度分布計測手段を設けた露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
H01L 21/30 516 C ,  G01B 11/00 G ,  G03F 7/20 521
Fターム (63件)：
2F065AA00 ,  2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065AA22 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065DD06 ,  2F065EE04 ,  2F065EE05 ,  2F065FF02 ,  2F065FF09 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065GG13 ,  2F065GG17 ,  2F065HH05 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL13 ,  2F065LL30 ,  2F065NN01 ,  2F065NN16 ,  2F065NN20 ,  2F065PP11 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ33 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA02 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB06 ,  5F046CB13 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16 ,  5F046DA01 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046EA03 ,  5F046EA04 ,  5F046EA09 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM