特許
J-GLOBAL ID:200903002515539857
コリメートスパッタ装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
保立 浩一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-342588
公開番号(公開出願番号):特開平10-158832
出願日: 1996年12月06日
公開日(公表日): 1998年06月16日
要約:
【要約】【課題】 コリメーターの交換の頻度をなるべく低くして生産性の高いコリメートスパッタ装置を提供する。【解決手段】 ターゲット2からのスパッタ粒子のうち基板50にほぼ垂直な方向に飛行するもののみを通過させるコリメーター8の温度を一定の温度に維持する温度制御手段を具備する。温度制御手段は、コリメーター8を加熱するヒータ81と、ヒータ81を温度を測定する温度測定器82と、温度測定器82の測定結果に従ってヒータ81を制御するコントローラ83とから構成され、装置の運転中のみならず、装置の休止中又は停止中においてもコリメーター8の温度を同じ一定の温度に維持する。
請求項(抜粋):
排気系を備えたスパッタチャンバーと、このスパッタチャンバー内の所定の位置に配置された所定の材料からなるターゲットと、このターゲットをスパッタするためのスパッタ放電を生じさせる電極と、成膜する基板をスパッタチャンバー内の所定位置にターゲットと平行に配置する基板ホルダーと、ターゲットから放出されるスパッタ粒子のうち基板にほぼ垂直な方向に飛行するもののみを通過させるコリメーターとを備えたコリメートスパッタ装置において、コリメーターの温度を一定の温度に維持する温度制御手段を具備していることを特徴とするコリメートスパッタ装置。
IPC (3件):
C23C 14/34
, H01L 21/203
, H01L 21/285
FI (4件):
C23C 14/34 T
, C23C 14/34 U
, H01L 21/203 S
, H01L 21/285 S
引用特許:
審査官引用 (7件)
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スパッタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-276402
出願人:富士通株式会社
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スパッタ装置とその装置を用いた半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-279693
出願人:日本電気株式会社
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薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-169678
出願人:ソニー株式会社
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スパッタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-045410
出願人:富士通株式会社
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スパッタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-048483
出願人:富士通株式会社
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特開平3-013564
-
薄膜堆積装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-347328
出願人:日電アネルバ株式会社
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