特許
J-GLOBAL ID：200903002561769964
2ステージ・リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-139902
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332656
出願日： 2006年05月19日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】高スループットで、比較的小さな構造のパターンを基板上に転写することのできるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】本発明は、2ステージ・リソグラフィ装置に関し、2つの基板ステージは、ステージの第1ステージによって保持される第1基板と装置の投影システムの最終要素との間に液浸液が閉じ込められる第1状況から、2つのステージの第2ステージによって保持される第2基板と最終要素との間に液体が閉じ込められる第2状況に向かってリソグラフィ装置を導くためのジョイント走査移動を実施するために、互いに協動するように構築され構成され、それによって、ジョイント走査移動中に、液体は、最終要素に対して前記空間内に実質的に閉じ込められる。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
パターン形成放射ビームを形成するために放射ビームの断面において前記放射ビームにパターンを与えることが可能であるパターニング装置を支持するように構築された支持体と、
装置の計量ステーションにおいて基板の特性を測定する測定システムと、
装置の露光ステーションにおいて前記パターン形成放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間に液体を閉じ込める液体閉じ込めシステムと、
位置決めシステム及び基板を保持するように構築された少なくとも2つの基板ステージとを備え、前記位置決めシステムは、前記計量ステーションと前記露光ステーションの間で前記ステージを移動するように構築され、前記位置決めシステムは、基板を保持する前記ステージの1つのステージを、前記基板の少なくとも1つの測定された特性に基づいて、露光中に前記露光ステーション内で位置決めするように構築されるリソグラフィ装置であって、
前記ステージは、前記ステージの第1ステージによって保持される第1基板と前記最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第1状況から、前記2つのステージの第2ステージによって保持される第2基板と前記最終要素との間に前記液体が閉じ込められる第2状況に向かってリソグラフィ装置を導くためのジョイント走査移動を実施するために、互いに協動するように構築され、それによって、前記ジョイント走査移動中に、前記液体は、前記最終要素に対して前記空間内に実質的に閉じ込められるリソグラフィ装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, H01L21/30 515G
5F046BA04
, 5F046CC01
, 5F046CC13
, 5F046CC20
, 5F046DA07
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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