特許
J-GLOBAL ID：200903066080839517

投影露光装置及び投影露光方法

発明者：
西 健爾

西 健爾 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-332844
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163097
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 スループットを一層向上させるようにする。【解決手段】 2つのウエハステージWS1、WS2がベース盤12上を独立して2次元移動可能とし、一方のアライメント系24aの下のウエハステージWS1上でウエハ交換、サーチアライメント、及びファインアライメントを行なっている間に、投影光学系PLの下のウエハステージWS2上に保持されたウエハW2をステップ・アンド・スキャン方式により露光が行なわれる。ウエハステージWS1、WS2上での両方の動作が終了すると、ウエハステージWS1を投影光学系PLの下、ウエハステージWS2をアライメント系24bの下へそれぞれ移動させて動作の切り換えが行なわれる。このように、一連の露光動作を2つのウエハステージWS1、WS2を使って並行処理することにより、処理時間が短縮されるため、スループットを向上させることができる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、感応基板を保持して2次元平面内を移動可能な第1基板ステージと;感応基板を保持して前記第1基板ステージと同一平面内を前記第1基板ステージとは独立に移動可能な第2基板ステージと;前記投影光学系とは別に設けられ、前記基板ステージ上又は前記基板ステージに保持された感応基板上のマークを検出する少なくとも1つのアライメント系と;前記投影光学系の投影中心と前記アライメント系の検出中心とを通る第1軸の一方側から前記第1基板ステージの前記第1軸方向の位置を計測するための第1測長軸と、前記第1軸方向の他方側から前記第2基板ステージの前記第1軸方向の位置を計測するための第2測長軸と、前記投影光学系の投影中心で前記第1軸と垂直に交差する第3測長軸と、前記アライメント系の検出中心で前記第1軸と垂直に交差する第4測長軸とを備え、これらの測長軸により前記第1基板ステージ及び第2基板ステージの2次元位置をそれぞれ計測する干渉計システムと;を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (4件)：
H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 D
引用特許：
審査官引用 (15件)
  • ステップ・アンド・リピート装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-112936   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • 特開平2-166717
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-345453   出願人：株式会社ニコン
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