特許
J-GLOBAL ID：200903002797593921

珪素-酸素架橋構造体及びその製造方法、高分子電解質用シリコーンゴム組成物並びにプロトン伝導性高分子電解質膜

発明者：
福島 基夫

福島 基夫 について

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山谷 正明

山谷 正明 について

, 
山本 昭

山本 昭 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-256741
公開番号（公開出願番号）：特開2008-074989
出願日： 2006年09月22日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】高弾性のためシール性に優れ、湿度変化によるプロトン伝導性能の変動が小さく、特に低湿下におけるプロトン伝導性能にも優れるプロトン伝導性膜の材料となり得る珪素-酸素架橋構造体及びその製造方法、これを用いた高分子電解質用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜を提供する。【解決手段】エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素-酸素架橋構造体、これを含有する高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られたことを特徴とする珪素-酸素架橋構造体。
IPC (5件)：
C08G 77/28 ,  H01B 1/06 ,  C08G 77/388 ,  C08L 83/04 ,  C08L 83/08
FI (5件)：
C08G77/28 ,  H01B1/06 A ,  C08G77/388 ,  C08L83/04 ,  C08L83/08
Fターム (29件)：
4J002CP101 ,  4J002CP102 ,  4J246AA03 ,  4J246AA19 ,  4J246AB15 ,  4J246BA11X ,  4J246BA110 ,  4J246BA280 ,  4J246BB022 ,  4J246BB241 ,  4J246BB252 ,  4J246CA668 ,  4J246CA688 ,  4J246CA828 ,  4J246CA838 ,  4J246CA859 ,  4J246CA928 ,  4J246FA061 ,  4J246FA421 ,  4J246GB12 ,  4J246GC55 ,  4J246HA68 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H026AA06 ,  5H026BB10 ,  5H026CX04 ,  5H026CX08 ,  5H026EE18
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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