特許
J-GLOBAL ID：200903002910659080
欠陥データ処理方法、およびデータの処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-199203
公開番号（公開出願番号）：特開2007-017290
出願日： 2005年07月07日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：
【課題】平均検出率を向上させ、又はDOI検出率を高める一方でノイズ検出率を抑制することが出来る欠陥検査条件を容易に決定する。【解決手段】検査装置から出力される欠陥・画像情報と、観察装置から出力されるADR・ADC情報とをデータ処理装置上で突き合わせをし、一覧表示させると共に、そのデータを用いて欠陥特徴量と平均検出率の関係や、レビューカテゴリごとにその欠陥特徴量と検出数を示す。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
外観検査装置から、被検体を複数回検査して得た欠陥の座標及び特徴量に関する複数の情報を取得する工程と、
前記座標情報を用いて、前記複数の情報の中から、同一の欠陥に対する情報を判別する工程と、
前記欠陥特徴量のうち大きさと欠陥の平均検出率の関係を算出する工程と、
算出した関係をグラフ表示する工程と
を有することを特徴とする欠陥データ処理方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956
, H01L 21/66
, G01N 21/88
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
, G01N21/88 J
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AA71
, 2G051AA73
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA21
, 2G051EC03
, 2G051EC06
, 2G051ED21
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106CA41
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ23
出願人引用 (10件)
-
部品検査システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-307104
出願人：日本電子株式会社, 日本電子システムテクノロジー株式会社
-
欠陥解析装置,検査システム、及び、検査方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-337227
出願人：株式会社日立製作所
-
特願2004-335271号公報
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審査官引用 (9件)
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