特許

J-GLOBAL ID：200903002961524715

プラズマ処理装置内の電流測定値から変位電流を除去するための方法及び装置

発明者： ゲックナー、マシュー、ジェイ ,  バンワゴナー、チャールズ、イー
出願人/特許権者： バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-534183
公開番号（公開出願番号）：特表2003-513439
出願日： 2000年09月20日
公開日（公表日）： 2003年04月08日
要約：

【要約】【解決手段】プラズマ処理装置において、プラズマドーピングチャンバ内で互いに離隔されたアノード及びカソードによって画成される一次キャパシタと並列に接続された二次キャパシタを与えることによって電流測定値から変位電流が除去される。二次キャパシタは一次キャパシタと同じ若しくはほぼ同じ容量を有するよう選択若しくは調節される。電圧パルスが一次及び二次キャパシタの両方に印加されるとき、キャパシタを流れるそれぞれの電流が測定される。電圧パルスの立上り及び立下り端に存在する変位電流の効果を除去するために及びドーピングチャンバ内のイオン電流を測定するために、二次キャパシタを流れる二次電流は一次キャパシタを流れる一次電流から減算される。

請求項（抜粋）：

電圧パルスが第1及び第2電極を横切って印加されるところの第1及び第2電極を含むプラズマ処理装置内のイオン電流を測定するための方法であって、(a)電圧パルスを受け取るべく第1及び第2電極間にキャパシタを電気的に接続する工程と、(b)電圧パルス中に第1及び第2電極に供給された第1電流を測定し、該第1電流を表す第1電流信号を与える工程と、(c)電圧パルス中にキャパシタに供給される第2電流を測定し、該第2電流を表す第2電流信号を与える工程と、(d)イオン電流を表すイオン電流信号を与えるべく第1電流信号から第2電流信号を減算する工程と、から成る方法。

IPC (3件)：

H01L 21/265 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/32

FI (4件)：

C23C 14/48 B ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/265 F ,  H01L 21/265 T

Fターム (2件)：

4K029DE01 ,  4K029EA09

引用特許：

出願人引用 (5件)

• PI3装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-111691   出願人：バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド
• 表面処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-253246   出願人：日新電機株式会社
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-075106   出願人：山形日本電気株式会社
• 注入イオン量計数装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-217124   出願人：ソニー株式会社
• イオン打込み装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-274046   出願人：株式会社日立製作所