特許
J-GLOBAL ID：200903003242440387
露光用パターン表示・検査・修正方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-258976
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089448
出願日： 1998年09月11日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】補正前又は補正後の露光用データを効果的に検査修正してLSI開発期間を短縮する。【解決手段】ステップS12で選択されたメニュー項目(押されたコマンドボタン)に応じて、ウェーハ露光用パターンに関してはステップS13及びS14へ進み、ステップS15での表示、ステップS16での検査またはステップS17での修正が行われ、ステンシルマスク上のブロックパターンに関してはステップS13及びS24へ進み、ステップS25での表示、ステップS26での検査またステップS27での修正が行われる。ステップS16で露光シミュレーションを行い、ステップS15でその結果を表示させ、ステップS17でこの結果に基づいてウェーハ露光用パターンデータを修正する。ステンシルマスク上のブロックパターンを修正した場合には、ウェーハ露光用パターンデータ中に展開されたブロックパターンも一括修正される。
請求項（抜粋）：
ポリゴンパターンが基本パターンに分解された対象物露光用パターンデータについて、パターンを検査し、検査結果を表示し、表示された検査結果に基づいてパターンデータを修正する露光用パターン表示・検査・修正方法であって、実質的に該パターンを露光対象物上への縮小投影パターンと対応させ、対応した投影パターンにつき、該検査として、パターンの辺が他のパターンの辺と接触していない第1非接触部分の端点である非接触端点の間に第1計算候補点を生成し、この第1非接触部分と対向する辺の第2非接触部分に、該第1計算候補点に対応した第2計算候補点を生成し、該第1計算候補点と該第2計算候補点とを通る直線上かつ該第1及び第2非接触部分を横切る部分の各々に複数の計算点を生成し、該計算点での露光強度を計算し、計算結果に基づいて、該直線上の描画パターン幅予測値を求め、該予測値の目標値に対する誤差を該検査結果として算出する、ことを特徴とする露光用パターン表示・検査・修正方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G06F 17/50
, H01L 21/027
, H01L 21/82
G03F 1/08 A
, G06F 15/60 636 B
, G06F 15/60 658 M
, G06F 15/60 666 Z
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 502 W
, H01L 21/82 Z
2H095BB01
, 5B046AA08
, 5B046BA04
, 5B046GA01
, 5B046HA05
, 5B046JA04
, 5B046KA05
, 5F046AA25
, 5F046DA02
, 5F046DA11
, 5F046DD01
, 5F064DD03
, 5F064HH06
, 5F064HH10
, 5F064HH14
