特許
J-GLOBAL ID：200903003296959957
レーザ加工光学装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-035711
公開番号（公開出願番号）：特開2001-225183
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：
【要約】【課題】低価格で、装置調整時間の短い、高加工精度なレーザ加工光学装置。【解決手段】平行平板120を可動してレーザビーム10をY軸方向に変位し、fθレンズの瞳位置に厳密に配置されたガルバノミラー202でレーザビーム10をX軸方向に変位し,Y軸方向とX軸方向に変位したレーザビーム10を、fθレンズにより、等速でY軸方向に移動するリニアステージ400に搭載されている被加工物500上に集光する。
請求項（抜粋）：
入射したレーザビームを第1軸の方向に変位する第1スキャン手段と、前記第1スキャン手段により前記第1軸の方向に変位した前記レーザビームを反射して第2軸の方向に変位するガルバノミラーと前記ガルバノミラーを回転駆動する第2ガルバノメータとを有す第2スキャン手段と、被加工物を搭載して前記第1軸の方向に移動するリニアステージと、前記ガルバノミラーを瞳に配置し、前記ガルバノミラーからの前記レーザビームを前記被加工物の表面に集光するfθレンズと、前記第1スキャン手段と前記ガルバノメータと前記リニアステージとを動作制御するスキャン制御部とを有することを特徴とするレーザ加工光学装置。
IPC (2件)：
B23K 26/08
, G02B 26/10 104
B23K 26/08 F
, G02B 26/10 104
2H045AB01
, 2H045AF12
, 2H045BA12
, 2H045CA63
, 2H045DA12
, 4E068CA05
, 4E068CD08
, 4E068CD09
, 4E068CD13
, 4E068CE02
, 4E068CE03
