特許
J-GLOBAL ID：200903003363183047

基板処理装置

発明者：
光吉 一郎

光吉 一郎 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-034205
公開番号（公開出願番号）：特開2008-198884
出願日： 2007年02月15日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
【課題】基板処理におけるスループットを十分に向上することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】処理ブロック11には、複数の裏面洗浄ユニットSSRおよびメインロボットMRが設けられている。メインロボットMRは、処理ブロック11の一方の側面側に設けられた裏面洗浄ユニットSSRと、処理ブロック11の他方の側面側に設けられた裏面洗浄ユニットSSRとの間に設けられている。インデクサブロック10と処理ブロック11との間には、基板Wを反転させるための反転ユニットRT1,RT2、およびインデクサロボットIRとメインロボットMRとの間で基板の受け渡しを行うための基板載置部PASS1,PASS2が、上下に隣接するように設けられている。メインロボットMRは、複数の裏面洗浄ユニットSSR、基板載置部PASS1,PASS2および反転ユニットRT1,RT2間で基板Wを搬送する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
一面および裏面を有する基板を処理する基板処理装置であって、 基板を処理する処理領域と、 前記処理領域に対して基板を搬入および搬出する搬入搬出領域と、 前記処理領域と前記搬入搬出領域との間で基板を受け渡す受け渡し領域とを備え、 前記処理領域は、 基板に処理を行う処理部と、 略鉛直方向の軸の周りで回転するとともに前記受け渡し領域と前記処理部との間で基板を搬送する第1の搬送手段とを含み、 前記受け渡し領域は、 基板が載置される基板載置部と、 前記基板載置部の上または下に積層されるように配置され、基板の一面と他面とを互いに反転させる反転装置とを含み、 前記受け渡し領域と前記処理部との間での基板の搬送時における前記第1の搬送手段の回転角度が略90度となるように前記受け渡し領域、前記処理部および前記第1の搬送手段が配置されたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/304
FI (2件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/304 648A
Fターム (20件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA15 ,  5F031FA21 ,  5F031GA06 ,  5F031GA16 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031JA02 ,  5F031JA22 ,  5F031MA23
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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