特許
J-GLOBAL ID:200903056928674550
基板処理装置および基板処理システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梁瀬 右司
, 振角 正一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-312092
公開番号(公開出願番号):特開2004-146708
出願日: 2002年10月28日
公開日(公表日): 2004年05月20日
要約:
【課題】優れた汎用性を有し、しかも基板を所望の基板処理位置に位置決めしながら、該基板に対して所定の基板処理を施すことができる基板処理装置および基板処理システムを提供する。【解決手段】リフト機構8では、アクチュエータ84の作動によりリフタピンスタンド81が上昇して支持部82が基板受渡し位置P81に位置決めされる。そして、搬送ロボットから未処理基板Sを受け取ると、アクチュエータ84が逆方向に作動して未処理基板Sの周縁部を支持部82で支持しながらリフタピンスタンド81が一体的に下降する。このため、支持部82が基板処理位置P83まで下降移動してくると、基板Sの周縁部が支持ピン3と係合する。そして、さらに支持部82が支持ピン3よりも低い位置まで移動した時点で支持ピン3に未処理基板Sが載置されて基板処理位置P83に位置決めされる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
所定の基板処理位置に略水平状態で位置決め支持された基板の一方主面に処理液を供給して該一方主面に対して所定の基板処理を施す基板処理装置において、
その先端部が基板の周縁部と係合可能に仕上げられるとともに、前記基板処理位置での基板の周縁部に対応して上下方向に昇降自在に設けられた基板移動部材と、
前記基板移動部材を上下方向に昇降駆動することで前記基板移動部材の先端部を前記基板処理位置の上方に設けられた基板受渡し位置と、前記基板処理位置とに移動して位置決めさせる昇降駆動機構とを備え、
前記基板受渡し位置に位置決めされた前記基板移動部材の先端部で前記基板を受け取ると、前記基板移動部材の先端部を前記基板と係合させたまま前記基板処理位置に移動して位置決めさせることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件):
H01L21/68
, B08B3/02
, H01L21/027
, H01L21/304
FI (5件):
H01L21/68 G
, H01L21/68 N
, B08B3/02 C
, H01L21/304 648A
, H01L21/30 569C
Fターム (26件):
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB34
, 3B201AB47
, 3B201BB21
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031FA21
, 5F031HA24
, 5F031HA26
, 5F031HA27
, 5F031HA29
, 5F031HA33
, 5F031HA48
, 5F031KA02
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031PA26
, 5F046LA02
, 5F046LA03
, 5F046LA04
, 5F046LA05
, 5F046LA06
, 5F046LA07
, 5F046LA14
引用特許:
審査官引用 (8件)
-
回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-312682
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-288613
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-209920
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
回転処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-067729
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-334539
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-039051
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-105867
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
半導体ウェット装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-010850
出願人:松下電子工業株式会社
全件表示
前のページに戻る