特許
J-GLOBAL ID：200903003702878483
透明材料の微細加工方法および微細構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-090266
公開番号（公開出願番号）：特開2004-306138
出願日： 2004年03月25日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】 透明材料の表面にエッチングされたパターンを形成すると同時に、有機薄膜によるパターンを形成する微細加工方法、及びパターン化された多重の有機薄膜を形成する微細加工方法および微細構造体の提供。【解決手段】透明基板上にレーザー光を照射して、透明基板の表面にパターン化された有機薄膜とエッチング表面を形成する微細加工方法において、透明基板表面に有機薄膜層を形成した後、レーザー波長に強い吸収を持つ流動性物質を前記透明基板の表面に接触させた状態で、前記透明基板の有機薄膜層とは反対側から0.01J/cm2/pulseから100J/cm2/pulseまでの強度のレーザーを照射することにより、パターン化された有機薄膜とエッチング表面を形成した透明基板および微細構造体を得る。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透明基板表面上にレーザー光を照射することにより同時に形成されているパターン化された有機薄膜とエッチング表面からなることを特徴とする構造体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
4E068CA02
, 4E068CA04
, 4E068CF01
, 4E068CF03
, 4E068DB07
, 4E068DB12
, 4E068DB13
, 4E068DB15
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (2件)
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有機分子膜パターンの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-202201
出願人：セイコーエプソン株式会社
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特許第3012926号
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