フォトレジスト用樹脂の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：後藤幸久 , 壬生優子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-352824
公開番号（公開出願番号）：特開2007-154080
出願日： 2005年12月07日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】レジスト用溶剤に極めて溶解しやすく、しかも金属含有量の極めて少ないフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体aと、極性基を有する脂環式骨格を含む単量体bとを少なくとも含む単量体混合物を滴下重合により重合させて、単量体aに対応する繰り返し単位及び単量体bに対応する繰り返し単位を少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を製造する方法であって、接液部がガラスである製造設備を使用するとともに、遮光した状態で貯留された単量体溶液を温度制御された溶媒中へ滴下して重合させることを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体aと、極性基を有する脂環式骨格を含む単量体bとを少なくとも含む単量体混合物を滴下重合により重合させて、単量体aに対応する繰り返し単位及び単量体bに対応する繰り返し単位を少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を製造する方法であって、接液部がガラスである製造設備を使用するとともに、遮光した状態で貯留された単量体溶液を温度制御された溶媒中へ滴下して重合させることを特徴とするフォトレジスト用樹脂の製造方法。

IPC (5件)：

C08F 2/01 , G03F 7/039 , G03F 7/033 , H01L 21/027 , C08F 220/28

FI (5件)：

C08F2/01 , G03F7/039 601 , G03F7/033 , H01L21/30 502R , C08F220/28

Fターム (33件)：

2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CC03 , 2H025FA12 , 4J011AA05 , 4J011AB02 , 4J011BB01 , 4J011BB09 , 4J011BB12 , 4J011DA04 , 4J011DB12 , 4J011DB14 , 4J011DB27 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BA11R , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100FA30 , 4J100GC35 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (7件)

ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188853 出願人：日本電気株式会社
写真焼付装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-228092 出願人：株式会社コパル
レジストポリマー及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-013877 出願人：丸善石油化学株式会社

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審査官引用 (1件)

環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステル
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-026058 出願人：ダイセル化学工業株式会社

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