特許
J-GLOBAL ID：200903004481848882
化学増幅ポジ型レジスト材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-257756
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083079
出願日： 1996年09月06日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 光発生した酸のレジスト膜内での濃度を、膜厚方向でできるだけ均一とし、その結果、レジスト膜に形成されるパターンの矩形性を向上させる共に、定在波によるパターンの側壁の凹凸を縮小させることができる、化学増幅ポジ型レジストを提供する。【解決手段】 (A)有機溶剤、(B)酸不安定基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、(C)光酸発生剤、(D)光塩基発生剤、および場合により(E)溶解阻止剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料。
請求項（抜粋）：
(A)有機溶剤、(B)酸不安定基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、(C)光酸発生剤、および(D)光塩基発生剤を含有する、ことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/004 503 B
, H01L 21/30 502 R
