特許
J-GLOBAL ID：200903004966243121

電子線照射処理方法

発明者：
山口 真典

山口 真典 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 七條 耕司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-303196
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107200
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 被処理物の加熱時に多量の汚染物質が発生するようなことがあっても、処理室内、特に電子線管の出射窓部の汚染物質による汚染を防止することのできる電子線照射処理方法を提供すること。【解決手段】 電子線管1から放射される電子線を加熱される被処理物6に照射して処理する電子線照射処理方法において、被処理物6が加熱される以前または直後から、被処理物6への加熱および/または電子線照射によって生成される汚染物質による前記電子線管1の電子線出射窓12への汚染を防止するための汚染防止ガス流8を電子線出射窓2に生成させ、その後被処理物6が加熱され電子線照射されて処理されるようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
電子線管から放射される電子線を加熱される被処理物に照射して処理する電子線照射処理方法において、被処理物が加熱される以前または直後から、被処理物への加熱および/または電子線照射によって生成される汚染物質による前記電子線管の電子線出射窓への汚染を防止するための汚染防止ガス流を前記電子線出射窓に生成させ、その後前記被処理物が加熱され電子線照射されて処理されるようにしたことを特徴とする電子線照射処理方法。
IPC (5件)：
G21K 5/04 ,  B05D 3/06 101 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/00 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G21K 5/04 E ,  B05D 3/06 101 Z ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/00 B ,  H01L 21/30 567
Fターム (13件)：
2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  4D075BB47X ,  4D075BB47Z ,  4D075BB52X ,  4D075BB52Z ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EA33 ,  4D075EA35 ,  4D075EA45 ,  5F046KA01 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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