プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の整合回路設計システム

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：志賀正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-345972
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264100
出願日： 2002年11月28日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】整合回路の製作メーカがインピーダンスZ0,Z1を、通信手段を介して入手し、プラズマ放電状態に対応した整合回路を製作し、整合回路での電力損失を低下させるプラズマ処理装置の整合回路設計システムを提供する。【解決手段】本発明のプラズマ処理装置の整合回路設計システムは、出力インピーダンスをチューニングコンデンサ255及びロードコンデンサ256で調整する整合回路2Aと、これら調整量を示す調整量データD2,D1を出力する調整量測定部52と、プラズマ放電時に高周波電源1からの電力の反射波を測定する反射波測定部50と、反射波を最小状態とするよう可変受動素子を制御する駆動制御部51と、このときの調整量データから、プラズマ処理室CNのインピーダンスZ1を演算する演算部71と、インピーダンスZ1に基づき、回路定数を演算して整合回路2Bを設計する設計部72とを有し、各部が情報通信網Iを介し接続されている。

請求項（抜粋）：

高周波電源と、プラズマ処理室と、前記高周波電源と前記プラズマ処理室との間のインピーダンス整合を行う整合回路の回路定数を抽出する調整用整合回路を有し、前記プラズマ処理室の負荷インピーダンスに対応したインピーダンス整合を行う回路定数を、前記調整用整合回路により、使用するプラズマ処理毎に抽出し、この回路定数に基づいて製品整合回路を製作し、プラズマ処理に対応したこの製品整合回路を、前記高周波電源と前記プラズマ処理室との間に介挿される整合回路として用いることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 , B01J 19/08 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (5件)：

H05H 1/46 R , B01J 19/08 E , C23C 16/505 , H01L 21/205 , H01L 21/302 101 B

Fターム (30件)：

4G075AA30 , 4G075BC02 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075BC10 , 4G075DA02 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4G075EC30 , 4G075EE02 , 4G075EE12 , 4G075FA01 , 4G075FA12 , 4K030FA01 , 4K030KA30 , 5F004BA04 , 5F004BB11 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F004CA03 , 5F004CB07 , 5F045AA08 , 5F045DP03 , 5F045EB02 , 5F045EH01 , 5F045EH13 , 5F045EH19 , 5F045GB01 , 5F045GB08

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭63-076865
特開昭61-176862
プラズマ処理装置およびインピーダンス測定具
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-340806 出願人：株式会社フロンテック, アルプス電気株式会社, 大見忠弘

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