ネットワークポリシランの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三枝英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-196485
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019769
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】安全性に優れ、しかも汎用の製造装置を用いて安価に所望のネットワークポリシランを製造しうる方法を提供する。【解決手段】ネットワークポリシランの製造方法であって、一般式(1)【化1】(式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基またはシリル基を表す。Xは、ハロゲン原子を表し、3つのXは、それぞれ同一であってもあるいは異なっていてもよい。)で示されるトリハロシランを非プロトン性溶媒中でMgまたはMg合金を作用させることにより、一般式(2)【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じである。nは、2〜1000である。)で示されるネットワークポリシランを形成させることを特徴とする方法。

請求項（抜粋）：

ネットワークポリシランの製造方法であって、一般式(1)【化1】(式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基またはシリル基を表す。Xは、ハロゲン原子を表し、3つのXは、それぞれ同一であってもあるいは異なっていてもよい。)で示されるトリハロシランを非プロトン性溶媒中でMgまたはMg合金を作用させることにより、一般式(2)【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じである。nは、2〜1000である。)で示されるネットワークポリシランを形成させることを特徴とする方法。

Fターム (5件)：

4J035JA01 , 4J035JB02 , 4J035JB03 , 4J035JB10 , 4J035LA05

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭54-065799
半導体材料の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-159363 出願人：日本石油株式会社
特開平4-222835

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